5位中国艺术家马德里归来探讨“摄影节”
2010年05月29日 22:08 艺术中国 】 【打印共有评论0

开幕式现场

摄影劫:中国艺术家在第二届马德里摄影节

名为“摄影劫:中国艺术家在第二届马德里摄影节”的摄影展于2010年5月29日下午在798艺术区伊比利亚当代艺术中心开幕。伊比利亚当代艺术中心总监夏季风,策展人许崇宝,展览艺术家韩磊在开幕式上发言。

伊比利亚当代艺术中心总监夏季风在开幕式上发言

参加此次展览的艺术家是国内著名摄影艺术家董文胜、高世强、韩磊、蒋志、金石5位艺术家。展览展出的是他们受邀参加2010年第二届马德里摄影节的参展作品。

策展人许崇宝在开幕式上发言

策展人许崇宝针对这个展览设置了几个话题:作为西班牙乃至欧洲最具公众影响力的当代摄影节,他们的入选意味着什么?我们如何看待和讨论摄影节?是形象工程?还是有内在体制化倾向的艺术展览形式?在很大程度上,摄影节在世界各地成为一种在地化的图像应对策略,艺术家以其生产的图像参与全球各地的摄影节展览,他们的作品维度与态度在多大程度上影响了不同社会形态语境中的图像阅读趣味的形成?

艺术家韩磊在开幕式上发言

以上几个问题引向本次展览主题“摄影劫Kalpastival of Photography”,以“劫Kalpa”代“节Festival”,在此“摄影劫”指向摄影本体,摄影节作为当代影像生产与流通机制的终端环节之一,如何在不同的社会、文化语境中选择并呈现影像作品?这个展览试图通过对五位艺术家作品的片断式研究触摸到当代摄影的某种本体属性及摄影节的相关问题。

这是国内第一个针对国际摄影节进行探讨的摄影展。展览将于5月29日持续至6月27日。

开幕式现场

展览现场

展览现场

展览现场

展览现场

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